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    Trisilylamine （TSA）
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    Trisilylamine （TSA）
    • Chinese Name：三甲硅烷基胺
    • English Name：Trisilylamine (TSA)
    • CAS Number：13862-16-3
    • Application：Silicon oxide is formed by flowable chemical vapor deposition (FCVD)
    • Product Grade：99.65%
    • Package Size：Kg
    Diisopropylaminosilane （DIPAS）
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    Diisopropylaminosilane （DIPAS）
    • Chinese Name： 二异丙氨基硅烷
    • English Name：Diisopropylaminosilane (DIPAS)
    • CAS Number：908831-34-5
    • Application：Seed Formation
    • Product Grade：8N
    • Package Size：Kg
    Trisdisilanylamine （TDSA）
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    Trisdisilanylamine （TDSA）
    • Chinese Name：三乙硅烷基胺
    • English Name：Trisdisilanylamine (TDSA)
    • CAS Number：14635-45-1
    • Product Purity：≥98.0%
    • Application：A thin film containing silicon is formed by chemical vapor deposition (CVD) or atomic layer deposition (ALD).
    • Package Size：Kg
    1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane （TADS）
    1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane （TADS）
    • Chinese Name：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
    • English Name：1,1,1-tris (dimethyl amino) disilane (TADS)
    • CAS Number：2273763-87-2
    • Product Purity：≥99.0%
    • Application：High density silicon oxide is formed by plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD).
    • Package Size：Kg
    Diisopropylaminodisilane （DPDS）
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    Diisopropylaminodisilane （DPDS）
    • Chinese Name：二异丙氨基乙硅烷
    • English Name：Diisopropylaminodisilane (DPDS)
    • CAS Number：151625-25-1
    • Product Purity：≥99.0%
    • Application：A seed layer is formed by vapor deposition.
    • Package Size：Kg
    1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane （DCDADS）
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    1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane （DCDADS）
    • Chinese Name：1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
    • English Name：1,1-dichloro-1-diisopropylaminodisilane (DCDADS)
    • CAS Number：2152681-89-3
    • Product Purity：≥99.0%
    • Application：Silicon nitride is formed by plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD).
    • Package Size：Kg
    Pentachlorodisilane （PCDS）
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    Pentachlorodisilane （PCDS）
    • Chinese Name：五氯乙硅烷
    • English Name：Pentachlorodisilane (PCDS)
    • CAS Number：31411-98-0
    • Product Purity：≥99.0%
    • Application：Silicon nitride is formed by plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD).
    • Package Size：Kg
    1，1，1-Trichlorodisilane （3CDS）
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    1，1，1-Trichlorodisilane （3CDS）
    • Chinese Name：1，1，1-三氯乙硅烷
    • 英文名：1,1,1-trichlorodisilane (3CDS)
    • CAS Number：78228-96-3
    • Product Purity：≥99.0%
    • Application：Silicon nitride is formed by plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD).
    • Package Size：Kg
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